项目名称：   高真空磁控溅射薄膜沉积系统   项目编号：   GY******9

公告开始日期：   2025-01-07 14:17:14   公告截止日期：   2025-01-10 15:00:00

采购单位：******学院   付款方式：   预付40%，发货支付10%，货到验收合格后支付50%

到货时间要求：   签订合同后2个月内

预算总价：   ￥400000.00

收货地址：******大学青岛校区

采购商品：   高真空磁控溅射薄膜沉积系统   采购数量：   1   计量单位：   台   所属分类：   半导体器件参数测量仪

品牌：   沈阳科仪

型号：   TRP450F

预算单价：   ￥400000.00

技术参数及配置要求：   一、用途：1.用于制备：Au、Ag、Pt、W、Mo、Ta、Ti、Al、Si、Cu、Fe、Ni等。2.多靶材倾斜共溅射的方式，可沉积混合物/化合物薄膜。3.在溅射过程中加入氧、氮或其它活性气体,可沉积形成靶材物质与气体分子的化合物薄膜。4.设备简单易于控制、镀膜面积大、薄膜附着力强，尤其适合高熔点和低蒸汽压的材料。5.磁控溅射技术是工业镀膜的主要技术之一，易于科研成果转化，是新技术向工业领域推广的最经济有效的方法之一。二、优点：1.此标准型产品具有高稳定性、高重复性、低故障率、便于维护、高成熟度等特点。2.通过控制真空室中的气压及溅射功率,就能获得稳定的沉积速率,通过精确地控制镀膜时间,容易获得均匀的高精度的膜厚,且重复性好。3.基片与膜的附着强度是一般蒸镀膜的10倍以上,且由于溅射粒子带有高能量,在成膜面会继续表面扩散而得到硬且致密的薄膜，同时高能量使基片只要较低的温度即可得到结晶膜。4.溅射的薄膜表面微观形貌比较精致细密，而且非常均匀。如溅射的金属膜通常能获得良好的光学性能、电学性能及某些特殊性能。5.在沉积大部分的金属薄膜，尤其是沉积高熔点的金属和氧化物薄膜时，如溅射钨、铝薄膜和反应溅射TiO2、ZrO2薄膜，具有很高的沉积率。6.磁控溅射镀膜法不产生环境污染，可替代传统的湿法电镀。三、均匀性：片内膜厚均匀性：≤±5%：四、极限真空度：≤6.6x10-6Pa(经烘烤除气后)；五、抽速：从大气开始抽气：30分钟可达到6.6x10-4 Pa；六、保压性能：系统停泵关机12小时后真空度：≤5Pa；七、真空室：1.单室结构；2.手动前开门；3.优质304不锈钢材质；4.尺寸约：Ф450mmx400mm；5.具备内烘烤除气功能；6.具备腔外照明功能；八、磁控溅射靶：1.强磁靶：1套；2.永磁靶：2套；3.尺寸：2英寸；4.向上溅射；5.可实现倾斜共溅射；6.靶基距可调：90mm-130mm；九、直流溅射电源：1.输出功率：0-500W；2.数量：2套；十、射频溅射电源：1.输出功率：0-500W；2.输出频率：13.56MHz；3.自动匹配器；4.数量：1套；十一、基片台：1.尺寸：4英寸（兼容小尺寸基片）；2.数量：1片；3.铁铬铝炉丝加热，炉丝温度： 800℃±1℃（无氧环境）；4.基片自转速度：5～20转/分；5.配有负偏压电源；十二、气体流量控制器：1.氩气：0-200SCCM（准确度：±1.5%F.S）；2.氮气：0-50SCCM（准确度：±1.5%F.S）；3.氧气：0-50SCCM（准确度：±1.5%F.S）；十三、脂润滑分子泵：1300L/S；十四、旋片真空泵：13L/S；十五、复合真空计：1x105Pa-1x10-7Pa；十六、工艺薄膜规：13.3pa；十七、电控系统：磁控溅射类设备控制系统使用我公司自主开发的“PVD类设备智能控制系统V2.3”：1.该系统具有完备的自锁、互锁保护系统，并对关键部件有完备的故障报警及报警动作保护措施，确保设备使用安全。2.该系统采用配方式自动工艺流程，提供开放式工艺编辑、存储与调取执行，可实现真空获得、控制温度、镀膜工艺、真空释放等工艺的自由组合，并一键式全自动运行。3.同时也可通过操作人机交互界面完成对设备中各部分模块参数的手动设置以及具体功能的手动控制，并可查询和导出系统运行过程中监测到的各种操作记录以及产生的各种数据记录。4.该控制系统具有权限管理、模式管理功能，分页功能区域主要由系统状态、真空获得、手动控制、自动工艺、工艺曲线、报警记录和历史记录七部分组成。4.1.权限管理系统权限分为两级：Admin（管理员），User（操作者），具体如下表：用户名用户身份手动操作权限自动操作权限历史数据查询权限工艺编辑权限参数设定权限Admin管理员√√√√√User操作者√√4.2.模式管理系统模式分为两种：手动模式，自动模式。当系统处于手动模式时，用户可进行泵、阀、质量流量控制计、挡板和工艺电源等部件的控制，此时无法执行自动工艺流程；当系统处于自动模式时，用户可执行预下载的自动工艺流程，此时无法进行部件的手动操作。4.3.分页功能区具体如下：系统状态、真空获得、手动控制、自动工艺、工艺曲线、报警记录、历史记录4.4.其中“系统状态”分页为默认登录界面，用于显示设备的运行状态：？真空获得分页：用于进行真空系统的气路控制。？手动控制分页：用于进行工艺电源、加热电源、挡板、样品台等部件的相关控制。？自动工艺分页：用于编写和下载设备自动模式下运行的工艺流程。？工艺曲线分页：用于显示实时的真空度和工艺温度等曲线。？报警记录分页：用于显示当前系统中正在发生的报警状态。？历史记录分页：用于查询和导出系统中记录的各类数据。十八、工具箱：标准1套；十九、冷却水循环机：标准1套；二十、空气压缩机：标准1套；二十一、备件：1.各规格无氧铜圈：1套。2.各规格胶圈：1套。3.外照明灯：1个。4.烘烤灯：2个。5.电离规：2个。6.不锈钢螺钉螺帽：1套。7.各规格保险丝：各10个。二十二、关键配置：1.磁控靶：2寸，3套，沈阳科仪2.直流溅射电源：500W，2套，吉兆源3.射频溅射电源：500W，1套，吉兆源4.偏压电源：-200V 1套 吉兆源5.气体流量控制器：200/50/50，3套，七星 6.脂润滑分子泵，1300L/S，1套，中科科仪7.旋片真空泵,13L/S，1套，优成8.电动插板阀：CF200，1套，沈阳科仪9.气动角阀：CF35，1套。国产10.真空计（含规管）：大气-10-7Pa，1套，成都睿宝11.薄膜规：13.3Pa，1套，日本佳能12.空压机：1套，浙江杰豹13.冷水机：3.42kw，1套，东莞安格斯二十三、设备占地面积：设备：长2.1mX宽2.1mX高1.8m。设备重量约1T。注：设备前方、后方需要根据实际留出气源等的操作空间，大约0.5米。二十四、设备供电：1. 三相电：380VAC，50Hz，三相四线制。2. 三相输入总功率约10KW。3. 至少有1个25A四极插座（供电回路具有过载保护措施），三火一零，或者有1个25A三相空气开关。4. 至少有两个16A空气开关或插座。二十五、质量保证：1.按ISO9001质量管理体系组织设计、加工、装调、检验、包装、运输。2.提供该设备的系统说明书、详细操作流程及外购配件仪器仪表说明书。3.在甲方现场验收后，一年内免费维修正常使用出现的故障，非正常的故障维修只核收工本费，终身维修只核收工本费。二十六、培训：1.培训时间：1～5天；培训人数：1～5人。2.培训内容及要求：3.了解设备的工作原理、结构、控制系统的工作原理和使用方法；4.熟练掌握整套系统的操作规程；5.对设备的一般故障进行诊断和简单维修，进行易损件的更换；6.对设备能够进行日常的维护和保养。

售后服务：   质保期限:1年;